PVD材料、技術(shù)問答
2022-04-24 11:13
一鍵分享
1.什么是PVD？
PVD是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)，指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程
2.什么是CVD?
CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相沉積)，指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在基材表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程
3.PVD的優(yōu)點是什么？
PVD物理氣相沉積方法工藝溫度低，通常涂層的沉積溫度為450度℃，沒有任何污染的一種環(huán)保表面處理方法，為世界發(fā)達國家所推崇。
4.PVD的適用范圍是什么？
目前大家所接觸的通常有以下幾類，光學鍍膜（鏡片，玻璃等）、裝飾鍍膜、功能鍍膜等、每個行業(yè)的涂層要求是不一樣的，評判標準也不一樣。
5.PVD的常用方法有哪些？
PVD通常的方法有：蒸發(fā)，濺射，電弧等方法，每種方法各有特點，如濺射方法顆粒細，缺陷少但結(jié)合不佳，電弧方法顆粒大，結(jié)合力好，但顆粒較粗，表面缺陷較多如液滴。
6.勝倍爾的PVD方法是什么？
我司用的是增加磁控濺射、磁控陰極弧和離子束相結(jié)合的方法。
7. 勝倍爾的PVD工藝溫度是多少？
我司根據(jù)客戶產(chǎn)品的不同，涂層工藝溫度從60度℃～250℃度
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